，只是离心的彻体力效果，使光阻稳定地、且是呈同心圆状地向外涂布。日本HD深刻模造术谐波SHF-40-80-2UH? 根据实际使用显示，GYRSET?只需一般涂布机的55%光阻用量。另外，其也可应用于厚光阻之涂布(厚度自数微米至数百微米不等)。受涂基板也可由晶圆改为任意的工作外型，而不会造成边缘一大部日本HD深刻模造术谐波SHF-40-80-2UH?份面积厚度不均的花花外貌。

[注]厚光阻是新近发展出来，供微机电研究使用的材料，如IBM的SU-8系列光阻，厚度由数微米至100微米不等，以GYRSET?涂布后，经过严格的烘干程序，再以紫外线或准分子雷射(excimerlaser)进行曝光显影日本HD深刻模造术谐波SHF-40-80-2UH?后，所得到较深遂的凹状图案，可供进一步精密电铸(electro-bing)的金属微结构成长填塞。这种加工程序又称为「仿LIGA」制程(poormansLIGA)，即「异步X光之深刻模造术」。