商铺名称:铭衍海(常州)微电子有限公司
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MYH-SOP20 是铭衍海(MYHMICRO)专为中精抛 / 次终抛开发的 20nm 高纯胶体二氧化硅抛光液,平衡高去除率与优异表面质量,适配半导体、光学、显示、蓝宝石、陶瓷等多领域精密平坦化加工,是兼顾效率与品质的高性价比选择。
一、产品参数
二、特点
粒径介于粗抛与终抛之间,去除率高(0.8–1.2μm/min),快速消除粗抛痕迹,同时实现 Ra≤0.5nm 低粗糙度,兼顾效率与表面质量。
颗粒球形度高、分布极窄,无尖锐棱角、无团聚,抛光后无划痕、无麻点、无亚表面损伤,大幅降低良率损失。
重金属离子<100ppb,适配半导体 / 光学严苛洁净要求;水性体系、不含机溶剂,后段清洗简单,无残留污染,不影响下道工序。
配方抗沉降、抗剪切,长时间循环使用性能稳定;适配主流 CMP 设备与抛光垫(聚氨酯、麂皮、无纺布),批量加工一致性好。
性能对标进口 20nm 级氧化硅抛光液,交期快、成本低 30%–50%,支持免费试样、工艺调试与定制化开发。
三、应用领域
1. 半导体微电子(次终抛 / 中精抛)
SHAPE \* MERGEFORMAT
2. 光学元件精密抛光
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光学镜头
3. 显示与消费电子玻璃
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手机盖板玻璃
4. 蓝宝石与晶体材料
蓝宝石衬底
5. 精密陶瓷与硬脆材料
四、工艺参数
使用方式:原液或 1:1–1:4 去离子水稀释