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碳化硅抛光液简介
MYH-SCPS800 是第三代半导体碳化硅高端制程核心精密抛光耗材,依托高端化学机械协同抛光技术,实现碳化硅晶片 / 器件原子级超净平坦化,精准消除深层加工损伤,严控表面粗糙度与面型精度,为碳化硅基高端半导体、光电器件高性能应用提供工艺支撑。
超精抛光(行业术语):通过精准调控化学腐蚀与纳米机械研磨协同作用,彻底去除加工刀纹、变质层及亚表面损伤,表面粗糙度控制在原子级(Ra≤0.05nm),实现:
产品特点
应用范围
核心用于碳化硅材料粗抛、精抛及超精密终抛,实现低缺陷、原子级平坦化,适用于:
常见类型
? 高端碳化硅晶片:4H/6H-SiC 高纯度单晶衬底、GaN on SiC 高端外延片及 2/4/6/8 寸高端晶圆片粗磨,晶片减薄后超净粗磨修复;
? 高端碳化硅器件:车规级功率、高频射频器件衬底,高端光电 / 激光部件、高精度 MEMS 芯片碳化硅基底粗磨;
? 高端碳化硅结构件:超精密机械密封件、耐强腐蚀耐磨件,航工 / 军工耐高温件、高端光学元件粗磨成型;
? 其他高端硬脆材料:蓝宝石外延衬底、氮化镓高端晶片,高纯度石英玻璃、精密陶瓷及半导体高端设备陶瓷部件粗磨预处理。储存与使用