商铺名称:东莞市宏诚光学制品有限公司
联系人:杨肖梅(小姐)
联系手机:
固定电话:
企业邮箱:2531943211@qq.com
联系地址:东莞市茶山镇黄岭路62号
邮编:523380
联系我时,请说是在机床母机网上看到的,谢谢!
产品参数 | |||
---|---|---|---|
二手新柯隆磁控溅射1100C电镀机/金属件电镀机/半导体电镀机转让 产品特性 | 磁控溅射机 | ||
新旧程度 | 8成新 | ||
设备所在地 | 东莞茶山 | ||
设备生产产地 | 日本 | ||
产品数量 | 3 | ||
可售卖地 | 全国 | ||
型号 | 1100C |
二手SHINCRON新柯隆ras-1100C/CZ溅射镀膜离子束溅射镀膜机/半导体镀膜/1300MM真空电镀机转让包安装调试培训教工艺服务
销售技术杨经理:18103045976
一、概述
新科隆 RAS溅射沉积系统是一款高性能、高稳定性的溅射沉积设备,适用于薄膜材料的制备。该系统采用先进的溅射技术,可以实现多种材料的高质量沉积,广泛应用于半导体、光学、磁学等领域。本说明书将详细介绍新科隆RAS溅射沉积系统的组成、工作原理、操作方法以及注意事项。
二、系统组成
1.溅射源:包括靶材、离子源、加速器等,用于产生高能离子束。
2.真空系统:包括泵、真空室、管道等,用于维持溅射室内的低真空环境。
3.沉积室:包括基板架、样品室、进样机构等,用于放置样品和进行溅射沉积。
4.控制系统:包括计算机、触摸屏、PLC等,用于控制整个系统的运行。
5.辅助设备:包括电源、加热器、冷却器等,用于提供溅射过程中所需的辅助条件。
三、工作原理
1.溅射源产生高能离子束,通过加速器加速后,射向靶材表面。
2.离子束撞击靶材,使靶材表面发生溅射,靶材表面的原子或分子被溅射出来。
3.溅射出的原子或分子在真空室内飞行,并沉积在基板上,形成薄膜。
4.通过控制系统调整溅射参数,可以控制薄膜的厚度、成分和结构。
四、操作方法
1.启动真空系统,将溅射室抽至所需真空度。
2.将靶材安装在溅射源上,确保靶材表面与溅射源距离适中。
3.将基板放置在基板架上,确保基板与溅射源距离适中。
4.启动控制系统,设置溅射参数,包括功率、时间、温度等。
5.启动溅射源,开始溅射沉积。
6.沉积完成后,关闭溅射源,等待基板冷却。
?
序号?部件名称?品牌?型号?数量
?1?机械泵组?SHINCRON?MTR-630?1个?
?2?分子泵?OSAKA?TG3451MVWB??2个
?3?深冷?POLY COLD?PFC-670HC?1个
?4?溅射阴极?SHINCRON??2对
?5?溅射电源?AE?PEII-10KW?2个
?6?真空腔室?SHINCRON?1100?2个
?7?ICP?SHINCRON?5KW????1个
?8?转架?SHINCRON?1100?3个
?9?转架推车?SHINCRON?1100?2个
?10?加热系统?SHINCRON??1个
?
?
?
?